FRP 반도체를 위해 2단계 Ultrapure RO 체계 500LPH는 18MΩ에 출력했습니다

2단계 RO 체계

이 물처리 시스템은 익지않는 물에 있는 전 종류 처리로 기계적인 여과기, 활성화한 탄소 여과기, 중단한 고체의 효과적인 제거, 앙금 입자, 유기 교질, 유기물, 냄새, 염소 및 익지않는 물을 제거하기 위하여 미리 프로그램하는과 더불어 다른 불순을, 역삼투 해수담수화 설비 이용합니다. 녹은 소금의 대부분, 박테리아, 뜨거운 시내 등, 완성되는 수질 기준을 지키기 위하여. 

익지않는 물 전도도가 300uS/cm 보다 적은인 경우에, 처음 단계 산출은 10uS/cm가, 2단계 산출 2uS/cm이다 이하 입니다

EDI 체계

EDI, 일컬어 전기 염분제거. 20 세기에서 점차적으로 발전한 새로운 매우 순수한 물 기술입니다. EDI 장비는 전기 투석 기술 및 이온 교환 기술을 결합했습니다. 그것은 선택성을 관통하고 음이온과 양이온 막의 기능을 직류 전기장의 밑에 이온에 의하여 지시된 이동을 만들기 위하여 교환합니다 이온 교환 수지의 기능을, 사용하고 있습니다. 물의 마지막으로 깊은 염분제거를 만들기 위하여. 동일한 시간에서는, 수소 이온과 물이 이온화할 경우 생성한 수산화 이온은 이온 교환 수지를 회생할 것입니다. 어떠한 재생라도 하는 사용 EDI 장비, 필요 산 및 알칼리 화학물질, 및 매우 순수한 물을 지속적으로 생성할 수 있지 않는 경우에 따라서.

EDI 입력 물은 10uS/cm 미만의 산출 수질 0.2uS/cm 미만 해야 합니다.

polished 침대 체계를 섞었습니다

닦는 수지는 ultrapure 물처리 시스템의 끝에 일반적으로 그것을 보증하기 위하여 이용됩니다
체계의 유출하는 질은 물 기준을 유지합니다. 일반적으로, 유출하는 수질은 18를 도달할 수 있습니다
megaohms 또는 더 많은 것. 닦은 수지는 실패한 후에, 버려집니다. 수지로 채워, 그것은 때 사용될 수 있습니다
물을 천천히 통과해.

전도도, 저항력을 극소화하기 위하여 순수한 물 탱크에 있는 물을 18MΩ 보다는 좀더 재생하십시오.

과정

치료되지 않는 물 급식 펌프 →Quartz 모래 filtration→ 활동적인 탄소 여과 → 안전 여과기 → 제 단계 고압 펌프 →1st 단계 RO system→2nd 단계 고압 pump→2nd 단계 RO system→EDI system→UV는 혼합 침대 system→output 보급소를 sterilizer→Polished 

선택적인 성분